浙江创芯55nm开源PDK正式发布！
ECOS团队在这里非常荣幸地向大家宣布：全球首款基于55nm工艺的开源PDK正式对外进行了发布！非常感谢浙江创芯贡献了截止发布时全球工艺最高的可流片开源PDK，这将是开源芯片历史上一个重要的里程碑（荣耀归于创芯）。浙江创芯55nm开源PDK（后文简称本PDK）的开源彻底改变了传统芯片设计高门槛、高成本的困境，它以开放共享的方式为高校、科研机构和开源社区提供了从芯片设计到流片制造的完整通路，使得研究者与开发者能够有机会将各种天马行空的设计想法转化为实际的物理硅片。此外，得益于55nm工艺节点在开源芯片领域内的先进性，未来开源芯片设计的复杂度和灵活性将显著提高，这为推动开源芯片生态建设和芯片人才培养提供了强大助力。